射頻放電離子鍍裝置特點
2012-06-13
射頻放電離子鍍裝置特點
①蒸發(fā)、離化和加速三種過程可分別獨立控制。離化是靠射頻激勵，而不是靠加速直流電場激勵，基體周圍并不產生陰極暗區(qū)。
②射頻離子鍍在10-3~10-1Pa高真空環(huán)境下也可穩(wěn)定放電工作，離化率高，可達5%-15%.提高了沉積粒子的總能蟹，改善了鍍層的致密度和結晶的結構。因此制備的鍍層表面缺陷及針孔少，膜層質量均勻致密，純度高.質好。尤其對制備氧化膜和氮化膜等化合物膜十分有利。
③易進行活性反應離子鍍.合成化合物和對非金屬基體沉積具有優(yōu)勢。
④基體沮升低.操作方便，易于控制。
射頻離子鍍的不足之處是:
①由于在高真空下鍍膜，沉積拉子受氣體粒子的碰撞散射較小，繞鍍性差。
②射頻輻射對人體有傷害，必須注意采用合適的電源與負載的藕合匹配網(wǎng)絡.同時要有良好的接地，防止射預泄翻。另外，要有良好的射振屏蔽，減少或防止射頻電源對側盆儀表的干擾。
上海帕特泵業(yè)制造有限公司
2012年06月13日 星期三
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